4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 10枚

商品説明

高純度シリコンウェハの魅力

4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 10枚は、研究・開発用に最適なシリコンウェハです。
高純度材料を使用し、CZ法で製造されているため、安定した品質と高精度な加工が可能です。
そのため、半導体研究や試作開発において高い評価を得ています。

製品仕様と特性

本製品は直径100.0±0.2mm、厚さ525±25μmの4インチサイズで、抵抗値は1～100Ω・cmと幅広い用途に対応可能です。
ミラー/エッチドの面状態により、様々な表面処理が施されており、ダストフリーの環境下で管理されています。
特に、TTVが≦25μmと非常に均一性が高く、正確な溝形成が求められるエッチング作業に最適です。

多様なカスタマイズ可能

特注対応品として、▼方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することが可能です。
さらに、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなどの多様な形状加工や表面処理にも対応しています。
ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせたカスタマイズも承ります。

おすすめの利用用途

本製品は、半導体の研究開発、プロトタイプの作成、試作開発など、精密な加工と高品質が求められる場面に最適です。
材料純度に関する証明には対応しておりませんが、研究機関や製造業の技術者の方々におすすめです。
※本製品は事業者向けの商品ですので、ご注意ください。