4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高純度4インチシリコンウェハの魅力

4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] は、研究・開発用として実績のある高純度材料を使用し、少量からご提供可能なウェハーです。
製造方法にはFZ法を採用し、P型導電型、面方位100、OF方位110といった仕様で、抵抗値は驚異の≧1000Ω・cmを実現しています。

卓越した仕様と特性

このシリコンウェハは直径100.0±0.2mm、厚さ525±25μmと非常に高精度。
面状態はミラー/エッチドとされ、ダストフリー環境での製造が確保されています。
TTV（全厚変動）は≦25μmと、均一性に優れた品質を持っています。

多様な利用用途に対応

本製品は、より小さな公差での加工が可能で、エッチングによる正確な溝形成が必要なプロジェクトに最適です。
さらに、ざぐり加工や穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、多様な形状加工と表面処理が可能です。

おすすめの用途と対象

このシリコンウェハは、半導体研究開発、電子デバイス製造の研究機関や企業の技術者に特におすすめです。
比抵抗率やウェハー厚みのカスタマイズが可能なため、専門的な用途にも応じたオーダーメイドな対応が可能です。
ただし、本製品は事業者向けの商品であり、材料純度に関する証明は対応できませんので予めご了承ください。