4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 5枚

商品説明

高品質4インチシリコンウェハーのご紹介

4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）, 高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品は、研究・開発用として実績がある高純度材料を用いたウェハーです。
少量からのご提供が可能で、特殊な仕様に応じたカスタマイズにも対応可能です。

製品特性と仕様

このシリコンウェハーは、直径100.0±0.2mmの4インチサイズで、ウェハー厚は525±25μmです。
FZ法を用いた製造によって高純度を実現し、P型導電型、面方位100、OF方位110の特性を備えています。
特に高抵抗値（≧1000Ω・cm）を有し、ダストフリーのミラー面仕上げにより、精密な研究開発に最適です。
また、TTVは≦25μmと高い平坦性を誇ります。

多様な加工オプション

お客様のニーズに応じて、より小さな公差での加工が可能です。
正確な溝形成が可能なエッチング技術を用い、ざぐり加工や穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、多様な形状加工と表面処理を提供いたします。

用途とおすすめの方

このシリコンウェハーは、半導体研究や開発プロジェクトに携わる研究者や開発者に最適です。
高精度な特注対応が可能なため、より高い精度を求める先端研究やプロジェクトにおいてもその性能を存分に発揮します。

※本製品は事業者向け商品であり、材料純度に関する証明書の発行は対応しておりませんのでご了承ください。