4インチシリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）] 片面ミラーDF品 5枚

商品説明

高純度の4インチシリコンウェハで研究をサポート

4インチシリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）] 片面ミラーDF品は、研究開発分野で実績のある高純度材料を使用したウェハです。
FZ法で製造され、ノンドープの特性を持つこのウェハは、直径100.0±0.2mm、厚さ525±25μmと、研究に適した精度を誇ります。
高抵抗（≧10000Ω・cm）により、精密な実験や開発に最適です。

多様な用途に対応可能

このシリコンウェハは、片面がミラー仕上げのDF品で、エッチングによる正確な溝形成が可能です。
特注対応品として、▼方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく加工し、さらに酸化膜付きウェハーや穴あけ加工など、多様な形状加工と表面処理が行えます。
また、パーティクルは≧0.3μmで20個以下、TTVは≦25μmと優れた品質を持っています。

おすすめの用途

本製品は、半導体向けの結晶材を使用しており、特に高精度な実験が求められる大学や研究機関、企業の開発部門におすすめです。
比抵抗率やウェハー厚みの調整も可能で、さまざまなニーズに応じたカスタマイズが可能です。
なお、本製品は事業者向け商品であり、個人向けの販売ではございませんのでご注意ください。