4インチシリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧20000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高精度研究用シリコンウェハ

4インチシリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧20000Ω）] 片面ミラーDF品は、
高純度の材料を用いて製造された高品質のシリコンウェハです。
研究・開発用途において実績があり、少量からのご提供が可能です。
このウェハは、FZ法による製造で、非常に高い抵抗値（≧20000Ω・cm）を持ち、
ノンドープの導電型が特徴です。
面方位は100で、OF方位は110に設定されています。

優れた仕様と多様な加工対応

100.0±0.2mmの直径と525±25μmの厚みを持ち、
ミラー/エッチドの面状態が特徴的なこのウェハは、
多様な形状加工と表面処理が可能です。
特に、ざぐり加工や穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなどの特注対応が可能であり、
高精度な方位角度や厚み公差での加工が求められるプロジェクトに最適です。
また、≧0.3μm,≦20個のパーティクル基準、TTV（μm）：≦25といった厳しい品質基準もクリアしています。

用途とおすすめの方

本製品は、半導体向けの結晶材を使用しているため、
高度な研究開発や試作プロセスに最適です。
特に、材料純度や高抵抗が求められる半導体研究、
または精密な溝形成が必要なプロジェクトにおすすめです。
事業者向け商品として、エッチングや高度な加工技術を駆使した
カスタムソリューションを求める企業や研究機関に最適の選択肢となります。