4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高純度シリコンウェハーで研究開発をサポート

4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 片面ミラーDF品は、研究・開発用として信頼のある高純度材料を用いたウェハーです。
高品質なCZ法で製造されたこのウェハーは、低抵抗値（≦0.005Ω・cm）を実現し、安定した電気特性を提供します。

優れた仕様と特注対応

このシリコンウェハーは直径100.0±0.2mm、厚み525±25μmを誇り、P型導電型で面方位は100です。
片面ミラー仕上げとエッチド面を持ち、ダストフリーを実現。TTV（総厚み変動）は≦25μmと精密加工が可能です。
また、特注対応では方位角度や厚み公差の高精度加工、酸化膜付きウェハーへの対応も可能です。

多様な用途とおすすめの利用者

このウェハーは半導体研究や開発プロジェクトに最適です。
特に、精密な溝形成が求められるプロジェクトや、各種形状加工・表面処理が必要な場合にご利用いただけます。
研究機関や企業の開発部門の方におすすめの一枚です。

※本製品は事業者向けの商品であり、材料純度に関する証明書等の発行には対応しておりません。
※1stオリフラ有り、2ndオリフラ無し