4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 片面ミラーDF品 10枚

商品説明

高純度研究用シリコンウェハーの魅力

この「4インチシリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 片面ミラーDF品 10枚」は、研究・開発用途に最適な製品です。高純度材料を用いており、少量からご提供可能です。このウェハーは、半導体向けの結晶材を使用しており、CZ法で製造された高品質な仕上がりが特徴です。
直径100.0±0.2mm、厚さ525±25μmと安定した仕様で、抵抗値も≦0.005Ω・cmと低く抑えられています。1stオリフラ有りで、面状態はミラーとエッチドの両方に対応し、ダストフリーの環境で管理されています。

多様な加工とカスタマイズ

本製品は特注対応が可能で、方位角度公差や厚み公差を高精度に加工することができます。また、エッチングでの正確な溝形成が可能であり、多様な形状加工や表面処理にも対応しています（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）。さらに、お客様のご希望に合わせた比抵抗率やウェハー厚みの調整も可能です。

推奨用途と対象ユーザー

このシリコンウェハは、研究開発や実験を行う研究者やエンジニアの方に特におすすめです。高精度な特注対応が可能なため、半導体製造や材料開発に携わる事業者様にとっても理想的な製品です。
高純度で安定した性能を求める方に、信頼できる品質をお届けします。