4インチシリコンウェハ 研究用 [N（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 10枚

商品説明

高性能シリコンウェハーの魅力

この「4インチシリコンウェハ 研究用 [N（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 10枚」は、研究・開発の現場での使用に適した高純度材料を用いたウェハーです。
特に、N型で面方位が100のこのウェハーは、CZ法で製造され、直径100.0±0.2mm、厚み525±25μmと高精度に加工されています。
抵抗値は1～100Ω・cmで、幅広い用途に対応可能です。ダストフリーの面状態はミラー仕上げで、TTVは≦25μmと、極めて平坦な品質を誇ります。

多様な加工と用途

このシリコンウェハーは、特注対応が可能で、▼方位やOF方位角度公差、厚み公差をより小さくすることができます。
また、ざぐり加工や穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、多様な形状加工と表面処理に対応しています。
これにより、エッチングでの正確な溝形成が可能となり、研究開発の現場での試作や実験に最適です。

おすすめの用途と対象

このシリコンウェハーは、半導体研究や材料開発、ナノテクノロジーなどの分野での実験やプロトタイピングに特におすすめです。
高純度の結晶材を使用しているため、精密な加工が求められるプロジェクトに最適です。
企業や研究機関での使用を想定した事業者向けの商品であり、特に高精度な実験条件を求めるプロフェッショナルにご利用いただけます。