4インチシリコンウェハ 研究用 [N（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高純度シリコンウェハの魅力

4インチシリコンウェハ 研究用 [N（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品は、研究・開発用として実績がある高純度材料を使用したウェハです。
FZ法で製造され、N型の導電型を持ち、面方位は100とされています。
この製品は、抵抗値が≧1000Ω・cmを誇り、表面はミラー仕上げでダストフリーのため、非常に高品質です。

優れた特性と用途

このウェハは、直径100.0±0.2mm、厚さ525±25μmと非常に精密に加工されています。
TTVは≦25μmと均一な厚みを保ち、OF方位は110で32.5±2.5mmの長さです。
特注対応品として、切断角度やOF方位角度公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングによる正確な溝形成も可能です。
また、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、多様な形状加工と表面処理に対応しています。

おすすめの用途とユーザー

このシリコンウェハは、半導体研究や開発に携わる研究者やエンジニアの方に最適です。
高抵抗値と高純度を必要とする電子デバイスやセンサーの開発において、その性能を最大限に発揮します。
また、特定の比抵抗率やウェハー厚みに合わせたカスタマイズにも対応しているため、特定の要件を求めるプロジェクトにもお勧めです。
※本製品は事業者向けとなっておりますので、一般の方はご購入いただけません。