4インチシリコンウェハ 研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 5枚

商品説明

高純度シリコンウェハの魅力

4インチシリコンウェハ 研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 5枚は、研究・開発の現場で幅広く活用されている高純度のシリコンウェハです。
その純度と精度は、少量からでもご提供可能で、実績ある製品として信頼を得ています。
CZ法を用いた製造により、安定した品質を実現しています。

製品仕様の特徴

このウェハのサイズは4インチ（直径：100.0±0.2mm）、厚さは525±25μmで、特に低抵抗値（≦0.02Ω・cm）が特徴です。
面方位は100、OF方位は110で、ダストフリーなミラー/エッチド状態が保たれています。
また、TTV（総厚み変動）が25μm以下という高精度仕様で、研究開発におけるさまざまな実験に対応します。

多様な加工オプション

本製品は特注対応品であり、▼方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することが可能です。
さらに、エッチングによる精確な溝形成、多様な形状加工や表面処理（例：ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー）にも対応しています。
比抵抗率やウェハー厚みに合わせたカスタマイズも可能ですので、用途に合わせた最適な製品をご提供します。

おすすめの利用用途

このシリコンウェハは、半導体研究、材料開発、電子デバイスの試作など、最先端の研究・開発プロジェクトに最適です。
特に、高精度が求められる用途や、特殊な形状や表面処理が必要なプロジェクトにおいて、その性能を発揮します。
事業者向けの商品であり、プロフェッショナルな環境での使用におすすめです。