6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,1-100Ω,] 片面ミラーDF品 5枚

商品説明

高精度な研究用シリコンウェハ

この6インチ（SEMI）シリコンウェハは、研究・開発用途に最適な高純度材料を採用しています。
CZ法により製造され、P型導電型と面方位100が特徴です。
ダストフリーの清潔な環境で管理され、表面はミラーとエッチドの両方に対応しています。
厚みは675±25μm、直径は150.0±0.2mmで、抵抗値は1～100Ω・cmを誇ります。
また、特注対応品として、より高精度な加工が可能です。

多様な用途に対応可能

このシリコンウェハは、エッチングによる正確な溝形成や、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど多様な形状加工に対応しています。
特に、比抵抗率やウェハー厚みに関してカスタマイズが可能で、さまざまな研究・開発シナリオにおいて高い柔軟性を提供します。

対象ユーザー

本商品は、半導体研究に従事する開発者や研究者におすすめです。
その高精度な加工技術は、精密な実験やプロトタイプの製作において、品質を重視する方に最適です。
なお、事業者向けの商品となっており、材料純度に関する証明書の発行は対応しておりません。