6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高性能シリコンウェハのご紹介

6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品は、
研究・開発の現場での使用実績を誇る、高純度材料を用いたウェハーです。
少量からご提供可能なため、様々なプロジェクトに柔軟に対応します。

製品の特長と仕様

このシリコンウェハは、直径150.0±0.2mm、厚さ675±25μmというサイズを誇り、
FZ法による高品質な製造が行われています。
導電型はP型、面方位は100で、OF方位は110、高抵抗値（≧1000Ω・cm）が特長です。
ダストフリーな面状態と、≦25μmのTTVを実現し、
研究開発における精密な測定と加工を可能にします。

多様な加工と利用用途

特注対応品として、方位やOF方位角度公差、厚み公差の高精度加工が可能です。
エッチングによる正確な溝形成や、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、
多様な形状加工と表面処理も対応可能です。
これにより、半導体研究、精密デバイス開発、各種実験用途に最適です。

おすすめの利用者

本製品は、半導体研究開発を行う研究機関や企業の技術者、
高精度な素材を求めるエンジニアに特におすすめです。
高い純度と精密な加工が求められるプロジェクトにおいて、
その真価を発揮いたします。
事業者向け商品であり、専門性の高い用途に応える品質を提供します。