6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品 5枚

商品説明

高純度シリコンウェハのご紹介

6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）, 高抵抗（≧1000Ω）] 片面ミラーDF品は、研究・開発用として高い実績を持つ製品です。高純度材料を使用し、少量からご提供可能な点が特徴です。このウェハは最新技術に基づいて製造されており、FZ法による高精度な製造が行われています。直径150.0±0.2mm、厚さ675±25μmの規格で、P型導電型と100面方位を持ちます。

多様な加工と表面処理に対応

このウェハは、ダストフリーの環境で製造され、片面がミラー仕上げとなっています。エッチングによる正確な溝形成が可能で、ざぐり加工や穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、多様な形状加工と表面処理に対応しています。特注対応品として、切断角度やOF方位角度公差、厚み公差をより小さくすることも可能で、比抵抗率やウェハー厚みに合わせた対応も承ります。

利用用途とおすすめのユーザー

本製品は、半導体の研究開発や試験に適したウェハです。高抵抗値（≧1000Ω・cm）を持つため、特定の電気的特性を必要とする用途に最適です。材料純度に関する証明には対応しておりませんが、品質と性能は折り紙付きで、半導体業界の専門家や研究者、開発エンジニアの方々に特におすすめです。事業者向けの商品であり、プロフェッショナルな用途にお役立ていただけます。