6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高純度シリコンウェハで研究を加速

6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用[ノンドープ（100）,高抵抗（≧10000Ω）]は、研究・開発用として長年の実績を誇る製品です。高純度材料を用いたこのウェハーは、少量からのご提供が可能で、研究者や開発者にとって理想的な選択肢です。

製品の特性と仕様

本製品は直径150.0±0.2mm、厚さ675±25μmの6インチシリコンウェハです。FZ法で製造されたP型導電型で、面方位は100、OF方位は110です。抵抗値は≧10000Ω・cmを誇り、片面ミラー仕上げでダストフリーの状態を保っています。TTVは≦25μmで、非常に高精度な加工が施されています。

特注対応と加工の可能性

特注対応品として、方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することが可能です。また、エッチングによる正確な溝形成も実現可能です。多様な形状加工と表面処理にも対応しており、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなどのニーズにもお応えします。ご希望の比抵抗率やウェハー厚みに合わせた対応も可能です。

推奨利用用途と対象者

このシリコンウェハは、半導体研究や電子デバイスの開発に最適です。高純度の材料を使用しているため、精度を求められる実験や検証作業においてその性能を存分に発揮します。さらに、結晶材を使用して製造加工しているため、材料純度の証明が必要ない用途においても安心してご利用いただけます。半導体研究者、開発者、製造業者向けの商品として特におすすめです。