6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 1枚

商品説明

高純度シリコンウェハーで研究開発をサポート

6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品は、
高純度材料を用いて製造されたウェハーで、研究・開発用として多くの実績があります。
少量からの提供が可能で、品質を重視する研究者や開発者に最適です。

製品仕様

このシリコンウェハーは、直径150.0±0.2mm、厚さ675±25μmで設計されています。
製造方法にはCZ法を採用しており、P型導電型、面方位100の仕様です。
抵抗値は≦0.02Ω・cmと低く、精密な電子回路の基盤として最適です。
また、ミラー/エッチドの面状態で、ダストフリーを実現しています。
さらに、TTVは≦25μmで、均一な厚みを保証します。

多様な加工と用途

この製品は、特注対応品として、様々な形状加工と表面処理が可能です。
例えば、ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハーなど、
お客様のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。
また、エッチングによる正確な溝形成ができ、精密なデバイス開発に役立ちます。

おすすめの用途と対象者

このシリコンウェハーは、半導体向けの結晶材を使用し、
高度な研究開発を行う大学や企業の研究者におすすめです。
特に、半導体デバイスの試作や検証を行う際に、その高純度と低抵抗が効果を発揮します。
電子材料の研究や新しい製品開発において、信頼性の高い基盤としてご使用いただけます。

※本製品は事業者向け商品であり、材料純度に関する証明等には対応しておりません。