6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [P（100）,低抵抗（≦0.005Ω）] 片面ミラーDF品 25枚

商品説明

高純度6インチシリコンウェハで研究開発を効率化

この6インチ（SEMI）シリコンウェハは、研究・開発用として多くの実績を持ち、
高純度材料を用いた信頼性の高い商品です。
CZ法で製造されたP型シリコンウェハは、面方位100に設定され、
抵抗値は極めて低い≦0.005Ω・cmと、高精度な実験に最適です。
片面ミラー仕上げのDF品で、全25枚入りの1箱で提供いたします。

精密な技術を支える優れた仕様

本製品は、直径150.0±0.2mm、厚さ675±25μmといった正確なサイズを持ち、
OF方位は110で、57.5±2.5mmのOF長を特徴としています。
また、パーティクル数は≧0.3μmで20個以下、TTVは≦25μmと、
高い品質を保証いたします。特注対応品として、
▼方位（切断角度）、OF方位角度公差、厚み公差をより小さくすることや、
エッチングでの正確な溝形成が可能です。
さらに、ざぐり加工や酸化膜付きウェハーなど、多様な形状加工と表面処理にも対応しています。

用途とおすすめの利用シーン

このシリコンウェハは、半導体研究や材料開発の分野で特に活躍します。
高精度な加工が求められる状況や、独自のプロジェクトにおいて、
多様な仕様に対応可能なこのウェハが力を発揮します。
また、比抵抗率やウェハー厚みに関する特別な要求にも応じられるため、
カスタマイズが必要な研究開発者や、試作段階での使用に最適です。
なお、事業者向け商品として、品質保証の範囲や材料純度に関する証明は
提供されませんが、高い純度の結晶材を用いて製造されています。