| 商品番号 | ASO-65-3738-21 |
|---|---|
| 梱包形態 | 1箱入り / 完全梱包 3箱入り / 完全梱包 5箱入り / 完全梱包 10箱入り / 完全梱包 |
研究・開発用として実績のある「6インチ(SEMI)シリコンウェハ 研究用 [N(100),高抵抗(≧1000Ω)] 片面ミラーDF品 5枚」は、
高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供いたします。特に半導体向けの結晶材を使用して製造加工されており、
材料の純度にこだわる研究者に最適な商品です。
●サイズ:6インチ(SEMI)シリコンウェハ
●直径(mm):150.0±0.2
●ウェハー厚(μm):675±25
●製造方法:FZ法
●導電型:N型
●面方位:100
●OF方位:110
●抵抗値(Ω・cm):≧1000
●OF長(mm):57.5±2.5
●面状態:ミラー/エッチド
●パーティクル:ダストフリー
●TTV(μm):≦25
●数量:5枚
●特注対応品:
▼方位(切断角度)、OF方位角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工可能
▼エッチングによる正確な溝形成が可能
▼多様な形状加工と表面処理が可能(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)
このシリコンウェハは、特に半導体研究や材料開発に携わる研究者やエンジニアの方におすすめです。
高抵抗値の特性を生かした精密な実験やデバイス開発に最適であり、特注対応によりお客様のニーズに合わせた
カスタマイズも可能です。高精度の加工が求められるプロジェクトにおいて、その性能を最大限に発揮します。
事業者向けの商品であり、プロフェッショナルな環境での利用に適しています。