6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 5枚

商品説明

高純度シリコンウェハーで研究・開発を飛躍的に向上

6インチ（SEMI）シリコンウェハ 研究用 [N（100）,低抵抗（≦0.02Ω）] 片面ミラーDF品 5枚は、
高純度材料を用いたシリコンウェハーで、研究および開発用として高い実績を持つ製品です。
少量から提供可能で、特注対応品として多様な加工にも応じることができます。
高い純度と精密な加工技術を兼ね備えたこのウェハーは、半導体研究に最適です。

製品仕様

このシリコンウェハーは、直径150.0±0.2mm、厚み675±25μmのサイズで提供され、
CZ法により製造されています。N型導電型で、面方位は100、OF方位は110です。
抵抗値は≦0.02Ω・cm、OF長は57.5±2.5mmで、面状態はミラー/エッチド仕上げ。
さらに、ダストフリー仕様でTTV（全体厚み変動）は≦25μmと、非常に精密な製品です。

用途とおすすめユーザー

本製品は、半導体の基礎研究や新素材開発、先端技術のプロトタイプ製作に最適です。
特に、材料の高い純度が求められる研究開発環境でその真価を発揮し、
正確な溝形成や多様な形状加工が可能なため、
精密な加工が必要なプロジェクトにおいても優れた性能を提供します。
半導体企業の研究者や開発者、研究機関での実験担当者におすすめです。